ZZS系列箱式真空镀膜机
- 用途及特点
- 规格参数
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简 介
成都南光机器有限公司ZZS系列箱式真空镀膜机，经过四十多年的发展，形成了真空镀膜室尺寸从350毫米到3600毫米的箱式真空镀膜机系列产品。广泛应用于企业、科研院所、大专院校的科研和量产化生产领域，是镀制多层光学薄膜、电学薄膜的理想设备。
产品特点
●采用箱式结构，真空系统后置，便于操作和维修；整机表面平整，方便清洁，特别适合放置在净化间内做穿墙式安装。
●设备真空系统抽速大，具有抽气时间短，真空度高，生产周期短等优点。
●采用管状加热器上烘烤，烘烤温度均匀，寿命长，可达到******烘烤温度350℃，烘烤均匀性270℃±10℃。
●工件转动采用上部中心驱动，轴承带水冷，磁流体密封，转动平稳******。
●采用石英晶体膜厚控制仪，可实现镀膜过程的自动控制。
●采用******的镀膜控制系统，人机操作界面美观实用，系统稳定******，可实现系统的手动、半自动和全自动操作。
适用范围
●用于生产IR-CUT滤光片、分色滤光片、高反射膜、AR膜、长波通、短波通和多种电学薄膜
常用标准配置
●以下表格内容为我公司五种常用标准机型的配置及指标，多年来我公司先后开发了350、450、500、550、630、700、800、900、1100、1250、1300、1500、1800、2200、2500、3600尺寸系列的箱式真空镀膜机。为满足广大用户的不同需求，我公司可接受多种形式的真空镀膜机的定制要求，包括对真空室体尺寸、真空系统配置、工件夹具系统、工件烘烤系统、膜厚监控系统、蒸发源系统、充气系统、离子源系统以及电气控制系统的特殊定制。
ZZS系列箱式真空镀膜机
Series ZZS Box-type Vacuum Coating Machine
常用标准配置表
Standard configurations for common use
Series ZZS Box-type Vacuum Coating Machine
常用标准配置表
Standard configurations for common use
| 型 号 Model |
ZZS600 | ZZS700 | ZZS800 | ZZS900 | ZZS1100 | ZZS1300 | ZZS1800 | ||
| 真空室尺寸(直径×高) Size of the vacuum chamber (diameter× height) |
Φ600×750 | Φ710×850 | Φ800×900 | Φ900×1000 | Φ1100×1300 | Φ1300×1300 | Φ1800×2000 | ||
| 极限真空度 Ultimate vacuum degree |
≤3.0×10-4Pa | ||||||||
| 恢复真空时间 Time for vacuum recovery |
4.0×10-3Pa≤15min | ||||||||
| 抽气系统 Pumping system |
扩散泵 Diffusion pump | K-400 | TK-500 |
K-600
|
K-630 | TK-500×2 | K-630×2 | K-800×2 | |
| 罗茨泵 Roots pump | ZJP-150 | ZJP-300 | ZJP-300 | ZJP-1200 | |||||
| 机械泵 Mechanical pump | 2X-30 | 2X-70 | 2X-70 | 2X-70 | 2X-70 | 2X-70 | 2X-70，H-150×2 | ||
| 真空测量系统 Vacuum measuring system |
配三路数字复合真空计，两路低真空，一路高真空 Three-way digital compound vacuum gauge, two ways of low vacuum and one of high vacuum |
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| 操作方式 Operation mode |
手动/自动 Manual/automatic |
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| 工件夹具 Work piece holder |
Φ600 | Φ640 | Φ750 | Φ840 | Φ1040 | Φ1240 | Φ1720 | ||
| 工件烘烤系统 Work piece baking system |
上烘烤，铠装管状加热器加热，******温度350℃，PID自动控温及显示 Up baking; heated by sheathed tubular heating element; maximum temperature 350℃; PID automatic temperature control and display. |
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| 蒸发源 Evaporation source |
电阻蒸发源 Resistance evaporation source |
电阻蒸发源功率4KW（8V、600A） Power of the resistance evaporation source: 4KW (8V, 600A) |
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| 电子束蒸发源 Electron beam evaporation source |
E型电子束蒸发源，功率6～10KW Power of E-type electron beam evaporation source: 6-10KW |
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| 膜厚监控系统 Monitoring system on depth of films |
光学膜厚监控，波长范围380-800nm，9ｏ透反射光路，六位电动比较片带显示；石英晶体膜厚监控，美国SQC-310、IC/6 The optical film thickness monitor, a wavelength range of 380-800nm, 9ｏtransflective optical path, six electric comparison sheet with display; quartz crystal thickness monitoring, the United States SQC-310, IC / 6 |
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| 充气系统 charge systems | 自动压强仪2～510-2Pa Automatic pressure instrument |
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| 质量流量计：单路单显，双路双显 Mass flow meter: one way one display, dual way dual display |
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| 离子辅助（选配） Ion-assisted (optional) |
H6霍尔离子源、H10霍尔离子源、Φ12cm考夫曼离子源、Φ16cm考夫曼离子源 H6 Hall ion source, H10 Hall ion source, Φ12cm Kaufman ion source, Φ16cm Kaufman ion source |
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| 深冷捕集器（选配） Cryogenic trap (optional) |
国产12P、国产15P、进口POLYCOLD550、进口POLYCOLD670 Domestic 12P, 15P, POLYCOLD 550, POLYCOLD 670 |
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| 动力需求 Power demand |
冷却水 Cooling water |
压力温度 Pressure and temperature |
压力：0.25～0.35MPa；温度≤25℃ Pressure: 0.25-0.35MPa; temperature ≤25℃ |
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| 流量 Flow rate |
≥50L/min | ≥60L/min | ≥80L/min | ≥100L/min | ≥140L/min | ≥160L/min | ≥180L/min | ||
| 压缩空气 Compressed air |
压力：0.5～0.7MPa Pressure: 0.5-0.7MPa |
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| ******消耗电力 Maximum power consumption |
～25KW | ～35KW | ～40KW | ～45KW | ～50KW | ～60KW | ～120KW | ||
| 设备外形尺寸（宽×深×高） Overall dimension (width×depth×height) |
2100×1800×2000 | 3350×2600×2370 | 3580×3000×2450 | 3870×3600×2670 | 3870×3600×2670 | 3900×4050×2950 | 4400×4000×3600 | ||
| 设备总重（KG） Gross weight (Kg) |
约1500 About 1,500 |
约2000 About 2,000 |
约2500 About 2,500 |
约3000 About 3,000 |
约3000 About 3,000 |
约4000 About 4,000 |
约6000 About 4,000 |
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